直流磁控溅射制备AlN薄膜 氮气流量多少为好啊,氮气和氩气的比例多少呢,还有镀膜气压多少呢?新买来的仪器,不清楚工艺条件,镀膜一个小时,几乎没有生长出薄膜,很着急,

来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/05/05 01:28:47
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新买来的仪器,不清楚工艺条件,镀膜一个小时,几乎没有生长出薄膜,很着急,

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镀膜气压在直流磁控溅射最好的为0.3-0.5Pa之间,这时候电子的寿命和溅射速率达到最佳.这里说的镀膜气压是指的氩气的流量在真空镀膜时的效果.所以氩气流量可以知道了.至于氮气流量就要看你要的是什么样的膜层,如果是纯净的氮化物,那就在调节电压的过程中,电压达到一个值后迅速下降之前,此时的氮气流量最大,这时候的溅射速率最大,产生的膜层也就快.

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